2025年光刻胶十大品牌榜中榜
榜单更新时间：2025年04月18日（每月更新）
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NO.1
JSR
品牌指数: 98.2JSR株式会社，JSR株式会社创立于1957年日本，是全球领先的光刻胶生产商，JSR以乳胶业务起家，1979年开始涉足电子材料市场，2004年JSR开发出了可用于32nm的浸没式ArF光刻胶技术，2011 年与 SEMATECH 联合开发出用于15nm工艺的化学放大型EUV光刻胶，2021年收购EUV光刻胶先驱Inpria。 查看更多 -
NO.2
TOK东京应化品牌指数: 97.1东京应化工业株式会社，东京应化株式会社成立于1940年，是日本历史悠久的化学材料企业之一，在1968年和1972年先后开发出半导体用负型胶和正型胶，已发展为全球领先的半导体光刻胶生产商，产品覆盖橡胶型负性光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、电子光束光刻胶等。 查看更多 -
NO.3
ShinEtsu信越品牌指数: 95.9信越有机硅国际贸易(上海)有限公司，信越化工始创于1926年日本，是全球知名高科技原材料的供应商，主要从事有机硅系列产品的研发与生产，1998年信越化学实现光刻胶产品的商用化，KrF光刻胶和ArF光刻胶行业领先者，其光刻胶产品有I/g线光刻胶、Krf光刻胶、ArF光刻胶和EUV光刻胶。 查看更多 -
NO.4
DuPont杜邦品牌指数: 94.7杜邦中国集团有限公司，杜邦是创立于1802年美国的化工业巨头，全球领先的半导体材料供应商，杜邦光刻胶业务主要源于陶氏杜邦合并前陶氏化学对罗门哈斯的收购，罗门哈斯是一家拥有百余年历史的大型精细化学品制造商，杜邦光刻胶产品主要涵盖i线光刻胶、g线光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶。 查看更多 -
NO.5
住友化学品牌指数: 93.3住友化学投资(中国)有限公司，住友化学工业株式会社隶属于住友集团，始于1913年，是日本较具代表性的综合性化学企业，业务主要包括石油化工、能源和功能材料、信息电子化学、健康和农业相关业务等，sumitomo光刻胶业务主要包含i线、KrF、ArF、EUV光刻胶等。 查看更多 -
NO.6
FUJIFILM富士品牌指数: 92.2富士胶片(中国)投资有限公司，富士胶片株式会社创建于1934年日本，是世界著名的精密化学制造、胶片、存储媒体和相机生产商，业务覆盖影像、印刷、医疗健康、高性能材料等重点领域。富士胶片的光刻胶产品覆盖负胶、i线、KrF、ArF、电子束胶等，目前正在积极研发EUV光刻胶。 查看更多 -
NO.7
Dongjin品牌指数: 91韩国株式会社东进世美肯，DONGJINSEMICHEMCO创建于1967年韩国，主要生产和销售半导体及FPD用材料和发泡剂，1983年东进世美肯着手开发半导体用光刻胶，1990年取得成功，使得韩国成为全球第四个掌握该项技术的国家，2021年与三星电子合作，成功开发出EUV光刻胶。 查看更多 -
NO.8
Kempur品牌指数: 89.9北京科华微电子材料有限公司，Kempur是上市公司彤程新材(股票代码:603650)子公司科华微电子旗下品牌，科华微电子是一家集先进光刻胶产品研、产、销为一体的拥有自主知识产权的高新技术企业，产品覆盖KrF、I-line、G-line、紫外宽谱系列光刻胶，已发展为国内领先的光刻胶产品供应商与服务商。 查看更多 -
NO.9
晶瑞电材品牌指数: 88.8晶瑞电子材料股份有限公司，晶瑞电材于2017年在深交所上市(股票代码:300655)，是一家集研发、生产和销售于一体的科技型新材料公司，为国内外新兴科技领域提供关键材料和技术服务，拥有紫外宽谱光刻胶、宽谱正胶、g线系列、i线光刻胶、KrF光刻胶系列等数十个型号产品，是一家拥有多项自主知识产权的高新技术企业。 查看更多 -
NO.10
雅克科技品牌指数: 87.5江苏雅克科技股份有限公司，雅克科技成立于1997年，致力于电子半导体材料，深冷复合材料以及塑料助剂材料研发和生产的高新技术企业，于2010年在深交所上市（股票代码：002409）。主要提供固化剂、阻燃剂、深冷保温板材、光刻胶等系列产品。其销售网络覆盖全国多个城市，并远销欧洲、美国等国家。 查看更多
一、光刻胶是什么东西
光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。
二、光刻胶的组成成分有哪些
光刻胶主要由感光剂（光引发剂）、聚合剂（感光树脂）、溶剂与助剂构成。
1、光引发剂是光刻胶的最关键成分，对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。
2、感光树脂用于将光刻胶中不同材料聚合在一起，是构成光刻胶的骨架，决定光刻胶包括硬度、柔韧性、附着力等基本属性。
3、溶剂是光刻胶中最大成分，目的是使光刻胶处于液态，但溶剂本身对光刻胶的化学性质几乎没影响。
4、助剂通常是专有化合物，由各家厂商独自研发，主要用来改变光刻胶特定化学性质。
三、光刻胶是半导体材料吗
光刻胶是半导体制造工艺中光刻技术的核心材料，光刻胶是图形转移介质，其利用光照反应后溶解度不同将掩膜版图形转移至衬底上，主要由感光剂（光引发剂）、聚合剂（感光树脂）、溶剂与助剂构成。光刻胶目前广泛用于光电信息产业的微细图形线路加工制作，是电子制造领域关键材料。
光刻胶品质直接决定集成电路的性能和良率，也是驱动摩尔定律得以实现的关键材料。在大规模集成电路的制造过程中，光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工中最重要的工艺。
四、光刻胶和半导体的关系
光刻胶、半导体和芯片之间有密切的关联，光刻胶是在半导体制造过程中的重要材料，它被用于制作非光刻图案，使得芯片上的电路图案得以形成。在制造芯片的过程中，光刻胶需要被涂覆在芯片表面，然后通过光刻机进行曝光和显影，最终形成芯片上的电路图案。
在半导体制造中，不同的光刻胶可以用于不同的应用。例如，对于高分辨率的微影应用，需要使用高分子聚合物光刻胶。对于高速微影应用，需要使用化学放大型光刻胶。对于深紫外微影应用，需要使用对紫外线敏感的光刻胶。
光刻胶的特性对于半导体器件的性能和质量有着至关重要的影响。例如，光刻胶的粘度和黏度会影响图形的分辨率和深度。光刻胶的抗溶剂性和耐辐射性会影响图形的精度和稳定性。光刻胶的化学稳定性和热稳定性会影响图形的形成和保持时间。
随着半导体技术的不断发展，光刻胶也在不断的改进和发展。例如，近年来出现了新型的无机光刻胶，具有更高的抗辐射性和化学稳定性。另外，还有一些新型的光刻胶，如光敏聚合物和电子束光刻胶等，具有更高的分辨率和稳定性。
五、光刻胶和芯片的关系
芯片和光刻胶是电子产业中不可缺少的两个元素，二者密切相关。芯片是当今计算机和其他电子设备中的核心部件，是信息处理和存储的基础。而光刻胶是制造芯片的重要工具之一，起着制造精度和速度的关键作用，是芯片制造中不可或缺的一步。
1、芯片设计
芯片的整个生产过程需要经历设计、加工、制造等多个环节。首先，在芯片的设计阶段，需要计算机辅助设计软件来生成芯片的模型图。在模型图中，芯片的形状、电路、线路均已确定。设计完成后，需要将模型转化为图形数据，这个过程就是芯片CAD。
2、芯片制备
芯片制备的主要工作包括光刻、掩膜制作、离子注入、化学腐蚀等。其中，光刻是制备芯片中最为重要的一环。光刻胶就是在这个环节中必须使用的一种材料。通过光刻胶的涂布、曝光、显影等步骤，可以在芯片的表面上形成精细的结构，包括导线、晶体管等。光刻胶的质量直接影响到芯片的加工精度和品质。
3、光刻胶的应用
光刻胶会被涂在用于制造芯片的基底上。基底通常是硅晶片。在加工过程中，光刻胶将被涂成非常细薄的一层，通常只有1-2微米。光刻胶涂好后，将会在光刻机上进行曝光。曝光光源照射在光刻胶上，形成一个芯片的模型图案。之后经过显影，光刻胶就会被去除，裸露出芯片基底上的那一小块预期的结构。光刻胶的质量和应用技术的精度，直接关系到最终芯片的品质和精度，是制造芯片的一道关键工序。
从芯片CAD，到设计，加工，制造等环节，光刻胶都无处不在。它是芯片制造的配角，但作用十分重要。芯片越来越小，对精度的要求越来越高，这使得光刻胶材料和加工技术也在不断地进步和革新。
六、光刻胶和光刻机有什么区别
光刻胶和光刻机的区别在于作用不同。光刻胶是一种有机化合物，成分是感光树脂、增感剂和溶剂，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。而光刻机是制造芯片的核心装备，采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
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