光刻胶和光刻机有什么区别 光刻胶和光刻机的关系

一、光刻胶和光刻机有什么区别

光刻胶和光刻机的区别在于作用不同。光刻胶是一种有机化合物，成分是感光树脂、增感剂和溶剂，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。而光刻机是制造芯片的核心装备，采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

二、光刻胶和光刻机的关系

光刻胶是光刻机研发的重要材料，光刻机利用特殊光线将集成电路映射到硅片表面，并要避免在硅片表面留下痕迹，需要在硅片表面涂上一层特殊的物质：光刻胶。

光刻机和光刻胶的关系就是：光刻机在晶圆上用光源画电路图的时候，不直接画图，需要在晶圆上涂抹一层液态的光刻胶，光刻胶干燥后形成胶膜，光刻机才开始画图作业。

简单的说光刻胶是用于保护硅片的，光刻机是用来制作芯片的。光刻胶的性能指标要求极高，如感光的性能、抗蚀性、表面的张力等。目前 光刻胶在芯片、面板、模拟半导体、发光二极管及光子器件上都得到了广泛应用。