2025十大光刻胶品牌排行榜 光刻胶排行榜前十名
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光刻胶
光刻胶
2025十大光刻胶品牌排行榜是CN10排排榜技术研究部门和CNPP品牌数据研究部门重磅推出的光刻胶十大名牌，榜单由CN10/CNPP品牌数据研究部门通过资料收集整理并基于大数据统计、云计算、人工智能、投票点赞以及根据市场和参数条件变化专业测评而得出。旨在引起社会的广泛关注，引领行业发展方向，并推动更多光刻胶品牌快速发展，为众多光刻胶实力企业提供充分展示自身实力的平台，排序不分先后，仅提供参考使用。
TOP TEN BRANDS
2025十大光刻胶品牌排行榜
JSR(JSR株式会社)
(JSR株式会社创立于1957年日本，是全球领先的光刻胶生产商，JSR以乳胶业务起家，1979年开始涉足电子材料市场，2004年JSR开发出了可用于32nm的浸没式ArF光刻胶技术，2011 年与 SEMATECH 联合开发出用于15nm工艺的化学放大型EUV光刻胶，2021年收购EUV光刻胶先驱Inpria。)
TOK东京应化(东京应化工业株式会社)
(东京应化株式会社成立于1940年，是日本历史悠久的化学材料企业之一，在1968年和1972年先后开发出半导体用负型胶和正型胶，已发展为全球领先的半导体光刻胶生产商，产品覆盖橡胶型负性光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、电子光束光刻胶等。)
ShinEtsu信越(信越有机硅国际贸易(上海)有限公司)
(信越化工始创于1926年日本，是全球知名高科技原材料的供应商，主要从事有机硅系列产品的研发与生产，1998年信越化学实现光刻胶产品的商用化，KrF光刻胶和ArF光刻胶行业领先者，其光刻胶产品有I/g线光刻胶、Krf光刻胶、ArF光刻胶和EUV光刻胶。)
DuPont杜邦(杜邦中国集团有限公司)
(杜邦是创立于1802年美国的化工业巨头，全球领先的半导体材料供应商，杜邦光刻胶业务主要源于陶氏杜邦合并前陶氏化学对罗门哈斯的收购，罗门哈斯是一家拥有百余年历史的大型精细化学品制造商，杜邦光刻胶产品主要涵盖i线光刻胶、g线光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶。)
住友化学(住友化学投资(中国)有限公司)
(住友化学工业株式会社隶属于住友集团，始于1913年，是日本较具代表性的综合性化学企业，业务主要包括石油化工、能源和功能材料、信息电子化学、健康和农业相关业务等，sumitomo光刻胶业务主要包含i线、KrF、ArF、EUV光刻胶等。)
FUJIFILM富士(富士胶片(中国)投资有限公司)
(富士胶片株式会社创建于1934年日本，是世界著名的精密化学制造、胶片、存储媒体和相机生产商，业务覆盖影像、印刷、医疗健康、高性能材料等重点领域。富士胶片的光刻胶产品覆盖负胶、i线、KrF、ArF、电子束胶等，目前正在积极研发EUV光刻胶。)
Dongjin(韩国株式会社东进世美肯)
(DONGJINSEMICHEMCO创建于1967年韩国，主要生产和销售半导体及FPD用材料和发泡剂，1983年东进世美肯着手开发半导体用光刻胶，1990年取得成功，使得韩国成为全球第四个掌握该项技术的国家，2021年与三星电子合作，成功开发出EUV光刻胶。)
Kempur(北京科华微电子材料有限公司)
(Kempur是上市公司彤程新材(股票代码:603650)子公司科华微电子旗下品牌，科华微电子是一家集先进光刻胶产品研、产、销为一体的拥有自主知识产权的高新技术企业，产品覆盖KrF、I-line、G-line、紫外宽谱系列光刻胶，已发展为国内领先的光刻胶产品供应商与服务商。)
晶瑞电材(晶瑞电子材料股份有限公司)
(晶瑞电材于2017年在深交所上市(股票代码:300655)，是一家集研发、生产和销售于一体的科技型新材料公司，为国内外新兴科技领域提供关键材料和技术服务，拥有紫外宽谱光刻胶、宽谱正胶、g线系列、i线光刻胶、KrF光刻胶系列等数十个型号产品，是一家拥有多项自主知识产权的高新技术企业。)
雅克科技(江苏雅克科技股份有限公司)
(雅克科技成立于1997年，致力于电子半导体材料，深冷复合材料以及塑料助剂材料研发和生产的高新技术企业，于2010年在深交所上市（股票代码：002409）。主要提供固化剂、阻燃剂、深冷保温板材、光刻胶等系列产品。其销售网络覆盖全国多个城市，并远销欧洲、美国等国家。)
CONSUMERS LOVE INTEGRATED STOVE BRANDS
2025消费者喜爱光刻胶品牌
CONSUMERS FOCUS ON BRANDS
2025消费者关注光刻胶品牌
1、光敏性原理
光刻胶的基本原理是光敏材料暴露在紫外线下，光线将光敏材料中的分子激活，使其发生化学反应，使光敏胶发生预设的变化。根据光线能量的不同，光刻胶可分为UV光刻胶和深紫外光刻胶。UV光刻胶用于制造精度要求低的电子元件，而深紫外光刻胶则用于制造更微小的元器件。
2、光学成像原理
光刻胶是通过光学成像原理来实现预期的纹理结构。当光照射在光刻胶表面时，会通过掩膜上的白色区域透过黑色区域，达到将图案映射到光刻胶上的目的。通过开发过程，只剩下光刻胶上所需的微型器件的部分区域，即可形成要制造的微型器件。
3、选择适合的溶剂
光刻胶的成分包括光敏材料、单体、溶剂和剂量。反应关键因素之一是选择适合系统的溶剂，溶剂是优化反应速率和接触角的关键因素。正确的溶剂选择可确保强大的粘附力和最小的溶液浸透时间。
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声明
十大品牌不是评选，十大品牌（品牌榜）是由CN10/CNPP品牌数据研究部门通过资料收集整理，并基于大数据统计及人为根据市场和参数条件变化分析研究而得出，是大数据、云计算、数据统计真实客观呈现的结果。以企业实力、品牌荣誉、网络投票、网民口碑打分、企业在行业内的排名情况、企业获得的荣誉及奖励情况等为基础，通过本站特有的计算机分析模型对广泛的数据资源进行采集分析研究，综合了多家机构媒体和网站排行数据，原始数据来源于信用指数以及几十项数据统计计算系统生成的品牌企业行业大数据库，并由研究人员综合考虑市场和参数条件变化后最终才形成十大数据并在网站显示，只有在行业出名、具有规模、影响力、经济实力的企业在才会被系统收录并在网站上面展示出现。
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