2025十大MOS管品牌排行榜 MOS管排行榜前十名

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MOS管
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2025十大MOS管品牌排行榜是CN10排排榜技术研究部门和CNPP品牌数据研究部门重磅推出的MOS管十大名牌,榜单由CN10/CNPP品牌数据研究部门通过资料收集整理并基于大数据统计、云计算、人工智能、投票点赞以及根据市场和参数条件变化专业测评而得出。旨在引起社会的广泛关注,引领行业发展方向,并推动更多MOS管品牌快速发展,为众多MOS管实力企业提供充分展示自身实力的平台,排序不分先后,仅提供参考使用。

TOP TEN BRANDS
2025十大MOS管品牌排行榜
infineon英飞凌(英飞凌科技(中国)有限公司)
(英飞凌成立于1999年德国,前身是西门子集团的半导体部门,全球半导体解决方案的领导者,在汽车电子、功率半导体和微控制器等领域具有领先优势,专注于为汽车和工业功率器件、芯片卡和安全应用提供半导体和系统解决方案,其产品以高可靠性、卓越质量和创新性著称,业务遍及全球100多个国家和地区。)
onsemi安森美(安森美半导体公司)
(onsemi安森美于1999年从摩托罗拉拆分独立,于2016年收购Fairchild仙童半导体公司,现已成为一家全球领先的半导体制造商,提供8万多款不同的器件和全球供应链,包括全面的高能效电源管理、模拟、传感器、逻辑、时序、互通互联、分立、系统单芯片(SoC)及定制器件阵容,涵盖汽车、功率元件、工业自动化、AC-DC、传感器、信号控制等领域。)
ST意法半导体(意法半导体(中国)投资有限公司)
(意法半导体创始于1988年,由意大利的SGS微电子公司和法国Thomson半导体公司合并而成,为全球大型半导体公司,多媒体应用一体化和电源解决方案市场佼佼者,产品涵盖分立器件、高性能微控制器、安全型智能卡芯片、微机电系统(MEMS)器件等众多领域,拥有包括从分立二极管与晶体管到复杂的片上系统器件等广泛的半导体产品线。)
Toshiba东芝(东芝(中国)有限公司)
(东芝是全球知名的半导体制造商,旗下东芝电子元件及存储装置公司成立于2017年,提供功率射频器件、晶体管、二极管、光电半导体、微控制器、传感器等各类IC及机械硬盘和移动硬盘等产品,其MOS管在全球市场占主导地位,主要产品包括中高压DTMOS系列和低电压U-MOS系列。)
RENESAS瑞萨(瑞萨电子(中国)有限公司)
(瑞萨始于2003年日本,全球知名的半导体芯片供应商,由NEC电子和原瑞萨科技(日立制作所半导体部门和三菱电机半导体部门)于2010年合并成立,全球微控制器(MCU)市场的佼佼者,专注于为客户提供全球专业的半导体器件产品及其解决方案,拥有40多家设计、销售、制造等集团公司分布于全球各地。)
华润微电子(无锡华润微电子有限公司)
(华润微电子是华润集团旗下负责微电子业务投资、发展和经营管理的高科技企业,曾先后整合华科电子、中国华晶、上华科技、中航微电子等中国半导体企业,已成为中国本土具有重要影响力的综合性半导体企业,于2020年上海证券交易所上市(股票代码:688396),是拥有芯片设计、晶圆制造、封装测试等全产业链一体化运营能力的半导体企业。)
士兰微电子Silan(杭州士兰微电子股份有限公司)
(士兰微电子始于1997年,是专业从事集成电路芯片设计以及半导体微电子相关产品生产的高新技术企业,于2003年在上交所上市(股票代码:600460),在绿色电源芯片技术、MEMS传感器技术、LED照明和屏显技术、高压智能功率模块技术、第三代功率半导体器件技术等多个技术领域保持了国内领先的地位。)
VISHAY威世(威世(中国)投资有限公司)
(威世成立于1962年美国,全球规模较大的分立半导体和无源电子元件系列产品制造商,提供二极管、各类晶体管、光电子产品,以及被动元件电容、电阻、电感等产品。目前集团已有几十个制造基地遍布全球多个国家,其中中国大陆拥有天津、惠州、珠海、西安等制造业工厂,为全球通讯、电脑、网络、医疗及消费电子产品提供全方位服务。)
AOS(阿尔法和欧米伽半导体有限责任公司)
(AOS万代半导体成立于2000年,美国纳斯达克上市公司,是一家集半导体设计、晶圆制造、封装测试为一体的高新技术企业,主要从事功率半导体的研发和生产,产品包括功率MOSFET、IGBT、IPM、TVS、HVIC、SiC/GaN、Power IC以及数字电源产品系列,其拥有业界独特功率的MOSFET技术。)
Nexperia安世半导体(闻泰科技股份有限公司)
(安世半导体隶属于闻泰科技旗下,是原飞利浦半导体标准产品事业部,是拥有完整芯片设计、晶圆制造、封装测试的大型垂直半导体企业,提供半导体、RFID和MiniLED制造设备和系统等超过1.5万种产品,年生产总量超过1000亿颗,客户包括汽车、通信、消费等领域耳熟能详的国际大型企业。)
以上品牌榜名单由CN10/CNPP品牌数据研究部门通过资料收集整理大数据统计分析研究而得出,排序不分先后,仅提供给您参考。我喜欢的MOS管品牌投票>>
CONSUMERS LOVE INTEGRATED STOVE BRANDS
2025消费者喜爱MOS管品牌
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2025消费者关注MOS管品牌

1、开启电压VT

开启电压(又称阈值电压):使得源极S和漏极D之间开始形成导电沟道所需的栅极电压,标准的N沟道MOS管,VT约为3~6V,通过工艺上的改进,可以使MOS管的VT值降到2~3V。

2、直流输入电阻RGS

即在栅源极之间加的电压与栅极电流之比,这一特性有时以流过栅极的栅流表示,MOS管的RGS可以很容易地超过1010Ω。

3、漏源击穿电压BVDS

在VGS=0(增强型)的条件下,在增加漏源电压过程中使ID开始剧增时的VDS称为漏源击穿电压BVDS,ID剧增的原因有下列两个方面:(1)漏极附近耗尽层的雪崩击穿,(2)漏源极间的穿通击穿,有些MOS管中,其沟道长度较短,不断增加VDS会使漏区的耗尽层一直扩展到源区,使沟道长度为零,即产生漏源间的穿通,穿通后,源区中的多数载流子,将直接受耗尽层电场的吸引,到达漏区,产生大的ID。

4、栅源击穿电压BVGS

在增加栅源电压过程中,使栅极电流IG由零开始剧增时的VGS,称为栅源击穿电压BVGS。

5、低频跨导gm

在VDS为某一固定数值的条件下,漏极电流的微变量和引起这个变化的栅源电压微变量之比称为跨导,gm反映了栅源电压对漏极电流的控制能力,是表征MOS管放大能力的一个重要参数,一般在十分之几至几mA/V的范围内。

6、导通电阻RON

导通电阻RON说明了VDS对ID的影响,是漏极特性某一点切线的斜率的倒数,在饱和区,ID几乎不随VDS改变,RON的数值很大,一般在几十千欧到几百千欧之间,由于在数字电路中,MOS管导通时经常工作在VDS=0的状态下,所以这时的导通电阻RON可用原点的RON来近似,对一般的MOS管而言,RON的数值在几百欧以内。

7、极间电容

三个电极之间都存在着极间电容:栅源电容CGS、栅漏电容CGD和漏源电容CDS,CGS和CGD约为1~3pF,CDS约在0.1~1pF之间。

8、低频噪声系数NF

噪声是由管子内部载流子运动的不规则性所引起的,由于它的存在,就使一个放大器即便在没有信号输人时,在输出端也出现不规则的电压或电流变化,噪声性能的大小通常用噪声系数NF来表示,它的单位为分贝(dB),这个数值越小,代表管子所产生的噪声越小,低频噪声系数是在低频范围内测出的噪声系数,场效应管的噪声系数约为几个分贝,它比双极性三极管的要小。

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