研究人员开发出新型飞秒激光等离子激元光刻技术

中科院长春光学精密机械与物理研究所研究人员开发了一种新型飞秒激光等离子激元光刻技术（FPL）。利用该技术，研究人员在百纳米厚的硅基氧化石墨烯薄膜表面实现了高质量微纳周期结构的快速制备，首次证明了FPL技术在二维薄膜材料上能够实现大面积高质量亚微米周期结构的快速制备。

在此之前，在石墨烯上制备微纳结构的技术有自组装、电子束刻蚀和极紫外光刻等，但这些技术存在着耗时长、成本高、缺乏通用性等问题。

FPL技术加工过程不易受材料表面缺陷、杂质等因素的影响，加工基底也不易受到材料种类的限制。加工材料表现出了优异的机械性能，可以利用传统的湿转移法进行完整转移。这为相关材料周期性微纳结构的灵活制备奠定了基础。